TELEDYNE 7500 多組分氣體分析儀 簡介： 7500 基于紅外光譜吸收原理，能選擇CO、CO2、CH4、SO2和O2等多種氣體， 產(chǎn)品概述： MODEL 7500 分析儀基于紅外光譜吸收原理，能對(duì)紅外光波長具有有效吸收峰的絕大部分氣態(tài)組分進(jìn)行分析，廣泛應(yīng)用于多種氣體組分的精測(cè)量，響應(yīng)速度快、數(shù)據(jù)穩(wěn)定，操作簡單。可同時(shí)測(cè)量4種組分，可選測(cè)量組分有CO、CO2、CH4、SO2和O2，組態(tài)
TELEDYNE 311 便攜式氧分析儀 簡介： 311 基于電化學(xué)原理，采用微燃料電池技術(shù)，廣泛應(yīng)用于各種氣體中微量、常量氧的精測(cè)量， 產(chǎn)品概述： MODEL311系列便攜式氧分析儀基于電化學(xué)原理，采用微燃料電池技術(shù)，廣泛應(yīng)用于各種氣體中微量、常量氧的精測(cè)量，響應(yīng)速度快、測(cè)量精度高、操作簡單、攜帶方便。本安型儀表，無需外部電源，用戶可方便地在多種危險(xiǎn)區(qū)域進(jìn)行樣品檢測(cè)。特殊應(yīng)用，可選配預(yù)處理系統(tǒng)。
防爆氧分析儀3020M 型是一款多功能微處理器儀器，專門用于檢測(cè)各種氣體中的氧氣。它是一種精確、經(jīng)濟(jì)高效的儀器，能夠測(cè)量低至 0-1% 范圍內(nèi)的氧氣百分比。3020M 借鑒了 3000 系列控制平臺(tái)的穩(wěn)定性能，為用戶提供了各種功能和選項(xiàng)，幾乎可以滿足任何應(yīng)用。
本安防爆式便攜式氧氣分析儀型號(hào) 3110便攜式氧氣分析儀3110 型代表了新一代便攜式痕量和百分比氧氣分析功能。它將堅(jiān)固耐用的便攜式分析儀與高可靠性的痕量和百分比水平傳感器相結(jié)合。這確保了在各種背景氣體（包括碳?xì)浠衔铮┲刑峁└呔鹊?ppm/百分比氧氣讀數(shù)。此外，基于微處理器的電子設(shè)備提供準(zhǔn)確、高分辨率的讀數(shù)和易于使用的功能
硫酸濃度儀SensoTech硫酸濃度儀超聲波密度儀Sensotech30控制器是操作者和傳感器的交互界面，SensoTech控制器技術(shù)提供充分的信息顯示功能、直觀的可操作性，以及簡單的程序設(shè)置.SensoTech硫酸濃度儀超聲波密度儀Sensotech30可用于多組分混合物的分析，多用于氣洗塔
超聲波液體濃度計(jì)進(jìn)口液體濃度分析儀SensoTech40超聲波液體濃度計(jì) 德國SensoTech能夠?yàn)榛I(yè)，鋼鐵工業(yè)，食品業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)以及其他的相關(guān)產(chǎn)業(yè)的客戶提供滿意的服務(wù)，我們擁有一批具備不同行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，且富有責(zé)任心的員工。進(jìn)口液體濃度分析儀SensoTech40超聲波液體濃度計(jì)期待能夠與您共同合作來攻克更多在線濃度測(cè)量的疑難問題。
TCWafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)和晶圓校準(zhǔn)測(cè)量片，同時(shí)為客戶提供各種品牌的TC Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)維修服務(wù)，包括美國KLA、韓國SKT、中國臺(tái)灣技鼎等品牌，損壞的晶圓測(cè)溫系，TCWafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)損壞后有哪些部分可以維修，教你如何變廢為寶，節(jié)省成本。市面上大部分損壞的TCWafer均可以維修，包括KLA等品牌。
AMS 晶圓型多功能測(cè)試片 AMS 無線晶圓校準(zhǔn)測(cè)量系統(tǒng)通過專業(yè)技術(shù)將多個(gè)傳感器模塊集成到晶圓上，能夠快速測(cè)量加速度、振動(dòng)、水平、調(diào)平角度、濕度、溫度等參數(shù)， 幫助提高半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)設(shè)備的調(diào)試效率，AMS 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的應(yīng)用有助于提升設(shè)備的調(diào)試效率和生產(chǎn)過程的控制精度。
德國HBM放大器主板AD103C 數(shù)字傳感器儀表 能夠讓你的過程控制和監(jiān)控更容易，方便。AD103C 將傳感器的信號(hào)數(shù)字化，無需進(jìn)行其他更改。因?yàn)?AED 儀表能夠讓你現(xiàn)在的稱重系統(tǒng)具有數(shù)字精度。簡單，直接，強(qiáng)大: 設(shè)置 AD103C 傳感器儀表 非?？焖?，可以通過電腦直接設(shè)置。
RTD Wafer 無線晶圓測(cè)溫系統(tǒng) RTD Wafer 晶圓測(cè)溫系統(tǒng)利用自主研發(fā)的核心技術(shù)將 RTD 傳感器集成到晶圓表面，實(shí)時(shí)監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數(shù)據(jù)，為半導(dǎo)體 制造過程提供一種高效可靠的方式來監(jiān)測(cè)和優(yōu)化關(guān)鍵的工藝參數(shù)。我司提 供核心的 DUAL SHIELD 技術(shù)，具有強(qiáng)抗干擾能力，可實(shí)現(xiàn)在干法刻蝕環(huán) 境中正常工作，精準(zhǔn)監(jiān)測(cè)刻蝕工藝溫度；結(jié)合核心的 TEMP-BLOCK
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